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分離系統 MORPH KDP®
革新型大流量敞開式動態分離系統為第四代分離技術,已獲國家發明專利

納米砂磨機之高效離心分離系統 MORPH KDP®革新型大流量敞開式動態分離系統可以使用0.1mm 的研磨介質,已經獲得國家發明(CN102872936A,CN204816715U,ZL 2015 1 0372820.8)。
不同研磨介質大小適用同一個分離裝置,無需更換分離裝置,是其它棒銷式研磨機無法實現的。
無縫隙堵塞。無金屬磨損碎片污染。重要的是研磨機壓力增長低,因此可以達到大流量高速進料。
長時間運行后,因磨耗而減小研磨介質大小也沒有問題。
研磨介質可為球形體 (適合硬度大的,粗顆粒) 。
來自產品的雜質 (大顆粒、纖維、…) 以及少量的粗料也是沒有問題的。它們與產品懸掛一起從機器中沖洗出來,并在冗余形狀的外部分離器上分開。
KDP 系統的優點可以完全拆卸,易于清洗。
該研磨系統可用于鋼 / 氧化鋯 / 碳化硅 /氮化硅/聚氨酯。

Type Laboratory Production MORPH KDP
MORPH
KDP 2
MORPH
KDP 10
MORPH
KDP 25
MORPH
KDP 60
MORPH
KDP 90
Scale-up factor [-] 0.25 1 2 4 8
Volume [l] 2 10 25 62 90
Batch Size [l] 10-60 100-900 500-2000 >2000 >3000
Troughput
(circulation)[kg/h]
40-200 250-1000 500-2500 1000-6000 1600-8800
Power [kW] 11 18.5-22 37-45 75-90 90-110

研磨系統自由搭配

根據實際情況搭配不同的研磨系統

應用領域

適合以下行業中應用
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